顯微熒光成像系統

簡要描述：S-MPL系列顯微熒光成像系統
光致發光（photoluminescence）即PL，是用紫外、可見或紅外輻射激發發光材料而產生的發光，在半導體材料的發光特性測量應用中通常是用激光（波長如325nm、532nm、785nm等）激發材料（如 GaN、ZnO、GaAs等）產生熒光，通過對其熒光光譜（即PL譜）的測量，分析該材料的光學特性，如禁帶寬度等。

產品型號：S-MPL系列
廠商性質：生產廠家
更新時間：2024-12-18
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S-MPL系列顯微熒光成像系統簡介

光致發光(photoluminescence)即PL，是用紫外、可見或紅外輻射激發發光材料而產生的發光，在半導體材料的發光特性測量應用中通常是用激光（波長如325nm、532nm、785nm等）激發材料（如 GaN、ZnO、GaAs等）產生熒光，通過對其熒光光譜（即PL譜）的測量，分析該材料的光學特性，如禁帶寬度等。光致發光可以提供有關材料的結構、成分及環境原子排列的信息，是一種非破壞性的、高靈敏度的分析方法，因而在物理學、材料科學、化學及分子生物學等相關領域被廣泛應用。
傳統的熒光光譜儀一般采用透鏡收光的方式，針對發光非常微弱的納米材料，即便用激光器激發，也很難獲得較好的信號。結合多年的實際測樣經驗，我司推出了顯微PL系統，采用顯微物鏡收光，較傳統的熒光光譜儀其收光效率提升了至少3個數量級，因此特別適用于傳統熒光系統難以檢測到的微弱信號，另外其輔助的白光成像功能，還可以實現微區（微米級）定位測量。

應用領域：