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詳細介紹
| 品牌 | OTSUKA/日本大冢 |
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• 使用顯微光譜法在微小區域內通過絕.對反射率進行測量，可進行高精度膜厚度/光學常數分析。
• 可通過非破壞性和非接觸方式測量涂膜的厚度，例如各種膜、晶片、光學材料和多層膜。 測量時間上，能達到1秒/點的高速測量，并且搭載了 即使是初次使用的用戶，也可容易出分析光學常數的軟件。
• 頭部集成了薄膜厚度測量所需功能
• 通過顯微光譜法測量高精度絕.對反射率（多層膜厚度，光學常數）
• 1點1秒高速測量
• 顯微分光下廣范圍的光學系統（紫外至近紅外）
• 區域傳感器的安全機制
• 易于分析向導，初學者也能夠進行光學常數分析
• 獨立測量頭對應各種inline客制化需求
• 支持各種自定義
測量項目：
• 絕.對反射率測量
• 多層膜解析
• 光學常數分析（n：折射率，k：消光系數）
OPTM 系列顯微分光膜厚儀
型號 | OPTM-A1 | OPTM-A2 | OPTM-A3 |
波長范圍 | 230 ~ 800 nm | 360 ~ 1100 nm | 900 ~ 1600 nm |
膜厚范圍 | 1nm ~ 35μm | 7nm ~ 49μm | 16nm ~ 92μm |
測定時間 | 1秒 / 1點 | ||
光斑大小 | 10μm (小約5μm) | ||
感光元件 | CCD | InGaAs | |
光源規格 | 氘燈+鹵素燈 | 鹵素燈 | |
電源規格 | AC100V±10V 750VA（自動樣品臺規格） | ||
尺寸 | 555(W) × 537(D) × 568(H) mm (自動樣品臺規格之主體 部分) | ||
重量 | 約 55kg（自動樣品臺規格之主體部分） | ||
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